高性能pHEMTデバイス低雑音増幅器プロセス加工
国立研究開発法人産業技術総合研究所 調達部調達一室
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2026年11月12日時点の情報
出典：国立研究開発法人産業技術総合研究所 官公需情報ポータルサイト（検索API）
日程
- 公告日4.14（火）
- 入札書の提出期限5.25（月）17:00
- 開札日5.26（火）14:00
参加の条件
- 国立研究開発法人産業技術総合研究所の契約に係る競争参加者資格審査事務取扱要領により、「役務の提供」の「A」、「B」又は「C」の等級に格付けされている者であるこ…
- 国立研究開発法人産業技術総合研究所の契約事務取扱要領第7条及び第8条の規定に該当しない者であること。
案件の内容
| 概要 | 高性能pHEMTデバイス低雑音増幅器プロセス加工 一式 |
|---|---|
| 場所 | 入札説明書のとおり |
| 期間 | 令和8年11月30日 |